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繼續增產,美光新廠宣布將于年底量產1Znm LPDDR4,同時還將擴大投資

2019/6/12 17:17:37      點擊:

6月11日,美光科技(Micron Technology)為廣島工廠新建的B2樓舉行了竣工儀式,慶祝DRAM技術核心基地“Micron Advanced Technology DRAM center of excellence”的擴建,預計將在2019年底量產1Znm LPDDR4。

與此同時,美光還計劃進行第二階段投資,將建設F棟制造工廠,用于量產1Znm工藝之后的1α、1βnm技術。

B2棟為4層建筑,部分清潔室在3樓,其余樓層用于工廠運轉,采用全自動搬運設備(FOUP),按照一定的工程設置,晶圓可以自動投入到160臺半導體制造設備中。

美光廣島工廠從2018年開始啟動,最初生產的是第二代工藝即1Ynm,隨著B2棟新廠竣工后,將在2019下半年增加1Ynm產量,除此之外,預計將在年底啟動第3代工藝即1Znm,將用于低功耗的LPDDR4生產。

美光在日本廣島,橋本(神奈川)和東京的工廠共雇傭了超過3800名員工。今年在擴建同時計劃增加400名工程師,并在今后三年將工程師崗位再增加500人。

至于為什么在日本設立這樣的研發和生產據點,美光表示,在日本有很多汽車、電機等產業,以及大量的半導體材料制造廠。除了能靈活應對市場,還能強化與合作伙伴的關系,通過這樣的投資,能達到更好的經濟效益。

竣工后的B2大樓將成為美光公司領先的DRAM研發中心,該中心還將作為預生產線,以幫助新技術快速過渡。通過這次擴建,維持了美光在廣島工廠的晶圓生產能力,未來幾年可以將多代先進工藝DRAM轉移到這里研發生產,再將先進工藝DRAM的生產技術引入實際的批量生產線。美光利用此基地,將加強技術開發,以實施全球戰略路線。

美光總裁兼首席執行官Sanjay Mehrotra稱,“DRAM技術可以幫助推動在人工智能和機器學習等各種領域的創新。這次擴建是在日本長期投資計劃中的一個重要里程碑,是邁向高性能存儲技術進一步發展的重要一步。廣島工廠將DRAM的開發和生產集中在一個地方,將成為實施集團全球戰略的關鍵基礎,也為美光先進DRAM工藝的發展奠定基礎。”

據悉,這座工廠原屬于爾必達(Elpida),2013年隨著爾必達一起并入美光旗下,美光已訂購多臺價值數十億日元的半導體生產設備,準備在這里研發13nm制程的芯片。

在5月份的美光投資者大會上,美光曾表示,在1Znm工藝世代以后還將有1αnm、1βnm、1γnm進行微細化的工藝。美光計劃1α、1βnm工藝將部分在廣島工廠的F棟生產,繼續對日本工廠進行投資,到目前為止的投資,已累計達數十億美元。

至于F棟,是美光第二階段的投資計劃,B2棟是第一階段投資計劃,但還未確定具體竣工時間,以及清潔室的建設,將根據今后的技術進展和市場供求平衡的狀況等因素進行投資判斷。

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